真空离子镀膜于1963年由D.M.Mattox提出，并开端试验。1971年Chamber等宣布电子束离子镀技巧，1972年B陈诉了反响蒸发镀(ARE)技巧，并制造了TIN及TIC超硬膜。同年，MOLEY以及SMITH将空心阴极技巧使用于镀膜。20世纪八十年月，又接踵呈现了多弧离子镀及电弧放电高真空离子镀，至此离子镀达到产业使用程度。

离子镀膜原理及品种：

离子镀是真空室中，行使气体放电或被蒸发物资局部离化，正在气体离子或被蒸发物资粒子轰击作用的同时，将蒸发物或反响物堆积正在基片上。离子镀把辉光放电景象、等离子体技巧以及真空蒸发三者无机连系起来，不只能显著地改良了膜品质，并且还扩展了薄膜的使用范畴。其优点是薄膜附出力强，绕射性好，膜材宽泛等。D.M.初次提出离子镀原理，起工作进程是：

先将真空室抽至4×10(-3)帕以上的真空度，再接通低压电源，正在蒸发祥与基片之间建设一个高压气体放电的高温等离子区。基片电极接上5KV直流负低压，从而构成辉光放电阴极。辉光放电区孕育发生的惰性气体离子进入阴极暗区被电场减速并轰击基片外表，对其进行荡涤。而后进入镀膜进程，加热使镀料气化，起原子进入等离子区，与惰性气体离子及电子发作碰撞，少局部孕育发生离化。离化后的离子及气体离子以较高能量轰击镀层外表，以致膜层品质失去改善。

离子镀品种不少，蒸发祥加热形式有电阻加热、电子束加热、等离子电子束加热、高频感到加热等

但是多弧离子镀与普通的离子镀有着很年夜的区分。多弧离子镀采纳的是弧光放电，而并非传统离子镀的辉光放电进行堆积。简略的说，多弧离子镀的原理就是把阴极靶作为蒸发祥，经过靶与阳极壳体之间的弧光放电，使靶材蒸发，从而正在空间中构成等离子体，对基体进行堆积。