铝上间接电镀往往只实用于一些特定场所，今朝正在产业中失去使用的有以下几种：

 1)铝经吹砂，使外表孕育发生微坑，再经脱脂、出光后间接带电人镀铬槽进行镀铬。正在开端的2～4min用高电流密度闪镀。

 2)铝正在硫酸l50。2509/l溶液中，’于室温下浸0：5—1rain后，正在上面标准下进行焦磷酸盐镀铜：硫酸铜(cuso,·5 h20) 30～509/l;焦磷酸钠(na4p20，·l0也0) 120～1459/l;磷酸氢二钠(na2hp04·12h20) 60一1009/l;温度 ， . 50^：60。c;ph 705～8.0;电流密度 li2-1.7md m2 a用紧缩空气管制搅拌。也可正在室温下电镀，但其电流密度不克不及年夜于1a.idm2。

3)铝间接镀铜的另外一种办法是正在适宜的酸性镀锕溶液中先对铝进行阳极氧化，使其外表天生一层多孔的氧化膜，而后逆转电流正在此氧化膜上电镀铜，其工艺标准以下： 

硫酸(h2so,) 90一ll09/l;硫酸铜(cus04·5h,o) 120—2009/l;主增加剂er .～0.5，0.8mijl;辅佐增加剂m日0.1。0,2ml/l;温度一 25，30℃：阳极电流密度 l.0.2.5md m2：工夫 30。60rain：阴极电流密度0.2。2.oa/d m2;工夫 l5.20rain。此法工艺简略，实用于除了高纯铝之外的一切铝及铝合金整机。因为正在阳极氧化时，整机外表会天生氧化膜，以是其抗蚀性也有所进步。但因阳极氧化时整机的外表毛糙度会有所进步，故没有宜用于要求低毛糙度的整机。

       4)铝正在碳酸钠109/l、磷酸钠l09/l溶液中，正在60。c下浸l0～20s后可按下标准间接镀镍：

硫酸镍(nis0。·7h：o) 2009/l;氟硼酸镍[ni(bf4)2] 669/l;氯化镍(nicl2·6h20) 。’硼酸(h3803) 209/l;温度 65，75℃：ph l l.0;电流密度 2.3a/d m2。留意el-含量不克不及太高，以防基材遭到浸蚀。.