微电子装置中的钴化学镀

   日期:2021-09-08     浏览:195    
核心提示:地下号 101238239地下日 20080806请求人 恩索恩公司地点 美国康涅狄格州一种于微电子安装的制作中正在金属基的基材上堆积Co或Co
 

地下号 101238239

地下日 20080806

请求人 恩索恩公司

地点 美国康涅狄格州

一种于微电子安装的制作中正在金属基的基材上堆积Co或Co合金的化学镀办法以及组合物,包罗一种Co离子源,一种用于将堆积离子正在基材上复原成金属的复原剂,及一种肟基化合物稳固剂。

 









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