低浓度铬酐镀铬工艺是指镀铬液中铬酐含量正在30～60g/L的镀铬工艺，铬酐应用量只有一般规范镀铬工艺的l/5～1/8，既加重了铬酐对环境的净化，又节约了年夜量的原资料。低浓度铬酐镀铬工艺组成及操作前提见表4—32。

表4-32低浓度铬酐镀铬工艺组成及操作前提

采纳低铬酐镀铬工艺能够取得装璜性铬镀层以及硬铬镀层，其光泽性、硬度、连系力和裂纹等方面，均能餍足品质要求。但有时镀层外表会呈现黄膜或黑白膜，可正在5%的硫酸溶液中除了去，而后正在碱性溶液中荡涤。

低铬酐镀铬液的扩散才能比惯例镀铬电解液好，但深镀才能比拟差，这给形态复杂的整机带来了肯定艰难。同时，电导率降落，槽电压降低，因此能耗高，镀液升温快。低铬酐镀铬的阴极电流效率达到l8%～20%。

因为上述缘由，使患上低铬酐镀铬工艺遭到肯定的限度，今朝的钻研标的目的集中正在寻求新的催化剂，以改善镀液功能，升高槽电压。